gbogbo awọn Isori
Aworan
Àwọn Òrùka Ìdìmú Gíga-Ẹ̀rọ Isostatic Graphite
Àwọn Òrùka Ìdìmú Graphite Isostatic fún Semiconductor
Àwọn Òrùka Ìdìmú Gíga-Ẹ̀rọ Isostatic Graphite
Àwọn Òrùka Ìdìmú Graphite Isostatic fún Semiconductor

Àwọn Òrùka Ìdìmú Gíga-Ẹ̀rọ Isostatic Graphite


Àwọn òrùka ìfàmọ́ra Graphite Graphite High-Purity Isostatic ti Semixlab ni a ṣe láti ṣe àtìlẹ́yìn fún iṣẹ́ ìṣiṣẹ́ semiconductor tó ti ní ìlọsíwájú tó dúró ṣinṣin àti tí ó ní ìdènà ìbàjẹ́. A ṣe é láti inú graphite onípele gíga tí a tẹ̀, àwọn òrùka ìfàmọ́ra wọ̀nyí ń fúnni ní iṣẹ́ ìfàmọ́ra tó dájú ní àwọn àyíká tí ó ní ìgbóná, tí ó ní ìgbóná gíga, àti tí ó ní ìgbónára kẹ́míkà tí a sábà máa ń rí nínú epitaxy, CVD / LPCVD / PECVD, ìtànkálẹ̀, oxidation, RTP, àti etch. Àwọn òrùka ìfàmọ́ra graphite ti Semixlab ń ran lọ́wọ́ láti mú ìdúróṣinṣin ilana, dín ewu ìbàjẹ́ patiku àti irin kù, àti láti mú kí àwọn àkókò ìtọ́jú ohun èlò gùn sí i. A gbà yín tọwọ́tẹsẹ̀.

Apejuwe

Àwọn òrùka ìdìmú Isostatic Graphite tó ga jùlọ láti Semixlab ni a fi graphite tó ga jùlọ ṣe, àwọn òrùka ìdìmú wọ̀nyí ń fúnni ní iṣẹ́ ìdìmú tó dúró ṣinṣin, tó sì ní ìbàjẹ́ díẹ̀, tó ń ṣe àtìlẹ́yìn fún ìgbẹ́kẹ̀lé iṣẹ́, ìṣọ̀kan èso, àti àkókò iṣẹ́ ẹ̀rọ ní gbogbo àwọn iṣẹ́ ṣíṣe wafer tó ti wà ní iwájú.

Nínú àwọn ètò epitaxy, níbi tí ìṣàkóso pípéye ti ìṣàn gaasi, ìdúróṣinṣin titẹ, àti ìṣọ̀kan ooru ṣe pàtàkì, àwọn òrùka Sealing Graphite Isostatic High-Purity Semixlab ń kó ipa pàtàkì nínú mímú ìdúróṣinṣin reactor ní àwọn iwọ̀n otútù tí ó dúró ṣinṣin tí ó sábà máa ń kọjá 1000 °C. Tí a bá fi sí àwọn ibi ìsopọ̀ yàrá, àwọn ààlà dídì, àti àwọn ìsopọ̀ tí ń yípo tàbí tí ó dúró ṣinṣin láàrín agbègbè gbígbóná, àwọn òrùka sealing wọ̀nyí ń fi ìfẹ̀sí ooru isotropic tí ó kéré àti isotropic hàn, èyí tí ó ń jẹ́ kí wọ́n lè pa ìdúróṣinṣin ìwọ̀n mọ́ nígbà tí wọ́n bá ń yípo ooru tí ó ń tún ṣe. Àìmọ́ irin wọn tí ó kéré gan-an ń dín ewu ìdàpọ̀ dopant tàbí ìbàjẹ́ irin kù, ó ń ran lọ́wọ́ láti rí i dájú pé ìwọ̀n epitaxial kan náà wà ní ìwọ̀n, àwọn ìpìlẹ̀ doping tí a ṣàkóso, àti ìdàgbàsókè kristali tí ó ga jùlọ nínú àwọn ilana epitaxy semiconductor silicon àti compound semiconductor.

Nínú àwọn ohun èlò CVD, LPCVD, àti PECVD, àwọn èròjà ìdìmú ni a fi hàn sí àpapọ̀ ìwọ̀n otútù gíga, afẹ́fẹ́, àwọn gáàsì ìṣàn tí ó ń pa, àti ní àwọn ìgbà míìrán àyíká plasma. Àwọn òrùka ìdìmú Graphite Isostatic High-Purity Semixlab ni a lò ní gbogbogbòò nínú àwọn ìdìmú ilẹ̀kùn yàrá, àwọn ètò ìyàsọ́tọ̀ gaasi, àti àwọn agbègbè ìyípadà láàrín àwọn agbègbè gbígbóná àti tútù ti reactor náà. Ìdènà kẹ́míkà inú ti graphite mímọ́ gíga ń jẹ́ kí iṣẹ́ dúró ṣinṣin ní iwájú àwọn gáàsì ilana líle bíi HCl, NH₃, àti àwọn ohun èlò ìṣàfihàn halogen, nígbàtí ìrísí kékeré isotropic tí ó nípọn ń dín ìṣẹ̀dá pàǹtíkì àti ìbàjẹ́ ẹ̀rọ kù lórí ìgbésí ayé iṣẹ́ gígùn. Ní ìfiwéra pẹ̀lú àwọn ojutu ìdìmú irin, àwọn òrùka ìdìmú graphite ń fúnni ní ìdènà gíga sí ìpalára àti àárẹ̀ ooru, tí ó ń ṣe àfikún sí àwọn àkókò ìtọ́jú gígùn àti àtúnṣe ilana tí ó dára síi nínú iṣẹ́ ṣíṣe iwọn didun gíga.

Ìtànkálẹ̀ ooru gíga, ìfọ́mọ́lẹ̀, àti ìṣiṣẹ́ ooru kíákíá fi àwọn ìbéèrè líle lórí iṣẹ́ ìfọ́mọ́lẹ̀ nítorí àwọn iwọn otutu tí ó le koko, àwọn ìwọ̀n ìpele ooru kíákíá, àti lílo ẹ̀rọ ìgbàlódé. Nínú àwọn àyíká wọ̀nyí, àwọn òrùka ìfọ́mọ́lẹ̀ Graphite Graphite High-Purity Semixlab máa ń pa ìdúróṣinṣin ìfọ́mọ́lẹ̀ mọ́ ní àwọn iwọn otutu tí ó ju 1100 °C lọ, èyí tí ó ń ṣe àtìlẹ́yìn ìṣàkóso afẹ́fẹ́ tí ó dúró ṣinṣin láàrín àwọn páìpù iná àti àwọn yàrá RTP. Àwọn ànímọ́ onímọ̀-ẹ̀rọ tí a pèsè nípasẹ̀ ìtẹ̀sí isostatic ń ṣe ìrànlọ́wọ́ láti dènà ìfọ́mọ́lẹ̀ wahala tí a ń gbé kalẹ̀, ìfọ́mọ́lẹ̀ kékeré, àti ìyípadà ìfọ́mọ́lẹ̀ nígbà ìgbóná àti ìtútù kíákíá, èyí sì ń ṣe àfikún sí àwọn profaili ìfọ́mọ́lẹ̀ dopant tí ó dúró ṣinṣin, ìdàgbàsókè oxide kan náà, àti àwọn àbájáde ilana ooru tí a lè tún ṣe pàtàkì fún ìṣiṣẹ́ ẹ̀rọ ìmòye àti ìṣẹ̀dá ẹ̀rọ ìrántí tí ó ti lọ síwájú.

Nínú ìlànà Etch, títí kan àwọn ohun èlò gbígbẹ tí wọ́n ń lo àwọn kemistri tí wọ́n ń lo halogen àti àwọn àyíká tí wọ́n ń ran lọ́wọ́ láti lo plasma, a nílò àwọn òrùka ìdìmú láti pa ìdúróṣinṣin afẹ́fẹ́ mọ́ nígbàtí wọ́n ń dín ìṣẹ̀dá pàǹtíkì àti ìbàjẹ́ kẹ́míkà kù. Àwọn òrùka ìdìmú Graphite Isostatic High-Purity Semixlab sábà máa ń wà ní àwọn agbègbè tí kò ní plasma tààrà, bí àwọn ìsopọ̀ ìdìmú ẹ̀gbẹ́ yàrá àti àwọn agbègbè ìyàsọ́tọ̀ ìṣètò. Nígbà tí a bá so wọ́n pọ̀ mọ́ ìwọ̀n ojú ilẹ̀ tàbí àwọn ìbòrí ààbò tó yẹ, àwọn òrùka ìdìmú wọ̀nyí máa ń fúnni ní ìdènà tó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé sí àwọn gáàsì etch tí ó ń pa àti wahala ooru, wọ́n sì ń ṣe àtìlẹ́yìn fún àwọn ipò yàrá tí ó dúró ṣinṣin àti dín ewu àdánù ìyọnu èso tí ó ní í ṣe pẹ̀lú ìbàjẹ́ kù.

A ṣe àgbékalẹ̀ rẹ̀ pẹ̀lú àfiyèsí lórí ìmọ́tótó ohun èlò, ìdúróṣinṣin ìṣètò, àti ìgbẹ́kẹ̀lé ìgbà pípẹ́, ìbáramu Semixlab's High-Purity Isostatic Graphite Sealing Ring pẹ̀lú àwọn ìmọ̀ ẹ̀rọ ìbòrí tó ti ní ìlọsíwájú àti ìṣọ̀kan sínú àwọn ètò ẹ̀rọ semiconductor tó díjú mú kí wọ́n jẹ́ ojútùú tó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé fún àwọn nódù iṣẹ́ tó ga jùlọ àti àwọn tó ti dàgbà. Nípa ṣíṣe iṣẹ́ ìdènà tó dúró ṣinṣin lábẹ́ àwọn ipò iṣẹ́ tó le koko jùlọ, Semixlab ń ṣe ìrànlọ́wọ́ fún àwọn olùṣe semiconductor láti ní èso tó ga jùlọ, lílo ohun èlò tó dára síi, àti iye owó tó dínkù láti ní. A ń retí láti di alábàáṣiṣẹpọ̀ ìgbà pípẹ́ rẹ ní China.

ni pato
Awọn ohun-ini ti ara ti graphite isostatic
ohun ini Unit Aṣoju Iye
Iwuwo Pupọ g / cm³ 1.83
líle HSD 58
Gbigba agbara Itanna μΩ.m 10
Agbara Ọpọlọ MPA 47
Agbara Igbaradi MPA 103
Agbara Ijapa MPA 31
Modulu ọdọ GPA 11.8
Imugboroosi Gbona (CTE) 10-6K-1 4.6
Iwa Gbona W·m-1·K-1 130
Apapọ Ọkà Iwon μm 8-10
Agbara % 10
Akoonu Eeru ppm ≤5 (lẹhin ti a sọ di mimọ)
wa Services

Ile itaja Ọja Semixlab

aisọye

lorun

Gbona isori