Àǹfààní ìdíje wa ni a túmọ̀ nípa ìṣọ̀kan inaro—láti àwọn ohun èlò CVD tí a ṣe àgbékalẹ̀ fúnrarẹ̀ sí ìmọ̀ ẹ̀rọ ìpín micron-level. A ń yanjú àwọn ìpèníjà pápá ooru tó ṣe pàtàkì jùlọ ní ilé iṣẹ́ náà nípasẹ̀ dátà tí a lè wọ̀n àti ìmọ̀ sáyẹ́ǹsì tí ó ní ẹ̀tọ́.

● Iṣakoso Ìmọ́tótó Gíga Jùlọ (<5ppm): Nínú epitaxy semiconductor, ìmọ́tótó kò ṣeé dúnàádúrà. A máa ń pa àwọn ohun ìdọ̀tí irin mọ́ ní <5ppm, a ń dènà ìbàjẹ́ wafer àti rírí i dájú pé iṣẹ́ rẹ̀ ga fún ṣíṣe àwọn nódù tó ti lọ síwájú.

● Ìbáramu àti Ìbáramu Àwọ̀ Sub-Micron: Ilé iṣẹ́ wa ń pese ìṣedéédé ẹ̀rọ ti 1μm. Ìfaradà gíga yìí, pẹ̀lú agbára wa láti ṣe ìtọ́jú ìṣọ̀kan àwọ̀ láti inú ìpele sí ìpele láàrín 20μm, ń rí i dájú pé ìpínkiri ooru dúró ṣinṣin ní gbogbo ẹ̀yà ara tí a ń gbé.

● Ìmọ̀-ẹ̀rọ CVD tí a ti so pọ̀ ní inaro: A kò gbẹ́kẹ̀lé àwọn ohun èlò tí kò ní ìpamọ́. Semixlab ń ṣiṣẹ́ àwọn ohun èlò CVD tí ó ní agbára, tí ó sì ń ṣe àgbékalẹ̀ fúnra rẹ̀, ó sì ń lo àwọn fọ́múlá ìbòrí tí a ṣe ní ilé. Ìṣàkóso gbogbogbò yìí lórí àyíká ooru àti àwọn ohun èlò ìṣàfihàn kẹ́míkà ń jẹ́ kí a lè mú kí ìwọ̀n fíìmù àti ìsopọ̀ rẹ̀ sunwọ̀n síi ju àwọn ìlànà ilé-iṣẹ́ lọ.

● Àwọn Ìdáhùn Ìbáramu CTE Tó Tẹ̀síwájú: Nípa ṣíṣe àkóso Coefficient of Thermal Expansion (CTE) láàrín àwọn ìbòrí àti àwọn ohun èlò graphite, a ti mú àwọn ibi ìkùnà tí ó wọ́pọ̀ kúrò bí ìfọ́ àti ìfọ́. Ìdúróṣinṣin ìṣètò yìí ń mú kí àwọn ohun èlò wa pẹ́ sí i ní àyíká ooru onípele gíga.

● Ìbáramu Ibi ipamọ data Blueprint & Reactor Gíga: Gẹ́gẹ́ bí olùpèsè taara, a ń tọ́jú ibi ìkówèésí tó pọ̀ ti àwọn ìlànà ìmọ̀-ẹ̀rọ àti àwọn àpẹẹrẹ fún àwọn irinṣẹ́ semiconductor kárí ayé. Àwọn ọjà wa ń pese ìbáramu "tí kò ní ìṣòro" fún ọ̀pọ̀lọpọ̀:

→ Awọn Eto Idagbasoke Crystal & Epitaxy

→ Ìtankalẹ̀ àti Àwọn Ilé Ìgbóná Oxidation

→ Ẹ̀rọ Ìtọ́jú Ẹ̀rọ àti Ìrànlọ́wọ́ Ion

→ Awọn Irinṣẹ Iṣakojọpọ To ti Ni Ilọsiwaju

Ẹgbẹ imọ-ẹrọ wa rii daju pe gbogbo apakan ni ibamu pẹlu awọn ibeere aaye ooru pato ti awọn iru ẹrọ OEM ti ile ati ti kariaye.

Ẹ̀rọ ìdánwò yàrá Semixlab

yongjiang-yàrá-ìṣiṣẹ́pọ̀-semixlab

ìdarí dídára-ẹ̀gbẹ́-ìmọ̀-ẹ̀rọ semixlab