gbogbo awọn Isori
CVD Tantalum Carbide (TaC) Aso

CVD Tantalum Carbide (TaC) Aso

Ile> awọn ọja > CVD Aso > CVD Tantalum Carbide (TaC) Aso

Òrùka ìdìdì graphite tí a fi TaC bo
Òrùka ìdìdì graphite tí a fi ń bo Tantalum Carbide
Òrùka ìdìdì graphite tí a fi TaC bo
Òrùka ìdìdì graphite tí a fi ń bo Tantalum Carbide

Òrùka ìdìdì graphite tí a fi TaC bo


Oruka Ifamọra Graphite ti a bo pelu TaC ti Semixlab jẹ ojutu ifaworanhan iṣẹ-ṣiṣe giga ti a ṣe apẹrẹ fun awọn ohun elo iṣelọpọ semiconductor ti n ṣiṣẹ labẹ iwọn otutu to gaju ati awọn ipo ti o ni ibinu kemikali. Nipa sisopọ ohun elo graphite mimọ giga pẹlu ideri tantalum carbide ti o nipọn, Oruka ifasita yii dara julọ fun awọn ilana epitaxy, LPCVD, CVD otutu giga, ati itankale ati oxidation, nibiti ifasita yara ti o duro ṣinṣin ati mimọ ohun elo ṣe pataki si iduroṣinṣin ilana ati iṣẹ ṣiṣe ikore. Ti a ṣe apẹrẹ fun igbesi aye iṣẹ pipẹ ati ibamu pẹlu awọn architecture ẹrọ semiconductor ti ilọsiwaju, ọja yii ṣe atilẹyin fun akoko iṣẹ irinṣẹ ti o ga julọ, igbẹkẹle ilana ti o dara si, ati idiyele lapapọ ti nini.

Apejuwe

Oruka Idì ...

Tantalum carbide jẹ́ ọ̀kan lára ​​àwọn ohun èlò seramiki tó dúró ṣinṣin ní ooru àti tó ń fa ìdènà kẹ́míkà tó wà, pẹ̀lú ibi yíyọ́ tó ga gan-an (≥3880℃) àti agbára tó lágbára sí àwọn ohun èlò kemistri tó dá lórí halogen àti chlorine. Nígbà tí a bá lò ó gẹ́gẹ́ bí ìbòrí tó bá àwọn òrùka ìdènà graphite tí a fi ẹ̀rọ ṣe, TaC ń ṣe ìdènà ìtànkálẹ̀ tó lágbára tó ń dín graphite sublimation, ìfọ́ ojú ilẹ̀, àti ìtújáde àìmọ́ kù ní àwọn iwọ̀n otútù tó ga. Ìṣètò ìbòrí yìí ń jẹ́ kí òrùka ìdènà náà lè máa ṣiṣẹ́ dáadáa àti ìṣiṣẹ́ ìdènà ní àwọn àyíká tí graphite tí a kò fi ìbòrí tàbí àwọn ohun èlò seramiki ìbílẹ̀ lè ba ìlànà náà jẹ́ tàbí kí ó ba ìlànà náà jẹ́.

Nínú àwọn ètò epitaxy, pàápàá jùlọ àwọn tí a lò fún ìdàgbàsókè silicon, SiC, àti compound semiconductor, òrùka ìdìmú graphite tí a fi bo TaC ń kó ipa pàtàkì nínú mímú ìdúróṣinṣin yàrá ní àwọn iwọ̀n otútù tí ó lè ju 1200 °C lọ. Tí a bá fi sí àwọn ìsopọ̀ ìdìmú iwọ̀n otútù gíga àti àwọn ààlà ìṣètò agbègbè gbígbóná, òrùka ìdìmú náà ń jàǹfààní láti inú ìfàsẹ́yìn ooru kékeré àti àwọn ohun-ìní ẹ̀rọ isotropic ti graphite core, nígbà tí ìbòrí TaC ń pèsè ojú ilẹ̀ líle, tí kò ṣiṣẹ́ dáadáa tí ó ń dènà ìkọlù láti ọ̀dọ̀ àwọn ohun tí ó ń ṣáájú hydrogen, HCl, àti metal-chloride. Àpapọ̀ yìí ń ran lọ́wọ́ láti mú kí ìfúnpá reactor àti àwọn ipò ìṣàn gaasi dúró ṣinṣin, ó ń dín ìṣẹ̀dá pàtákì kù nítòsí agbègbè ìdàgbàsókè, ó sì ń dín ewu ìbàjẹ́ erogba tàbí irin kù tí ó lè ní ipa taara lórí ìṣọ̀kan ìpele epitaxial àti iṣẹ́ iná mànàmáná.

Nínú àwọn ìlànà LPCVD àti CVD tí ó ní ìwọ̀n otútù gíga, àwọn èròjà ìdìmú kìí ṣe sí àwọn ìwọ̀n otútù gíga nìkan, ṣùgbọ́n sí àwọn gáàsì onípele gíga àti àwọn ìyípo iṣẹ́ gígùn. A ṣe àgbékalẹ̀ òrùka ìdìmú Graphite ti Semixlab láti kojú àwọn ipò wọ̀nyí nípa lílo ìdúróṣinṣin kẹ́míkà tí ó dára jùlọ àti ìfúnpá ooru kékeré ti TaC ní àwọn ìwọ̀n otútù gíga. Ìbòrí tí ó nípọn náà ń ṣiṣẹ́ gẹ́gẹ́ bí ààbò ààbò lòdì sí àwọn ẹ̀yà ìbàjẹ́, ó ń dín ìbàjẹ́ ohun èlò kù gidigidi àti fífún ìgbésí ayé iṣẹ́ ní ìfiwéra pẹ̀lú àwọn ojútùú ìdìmú graphite tí a kò bo. Àṣeyọrí tí ó dára yìí ń ṣe àfikún sí àwọn àkókò ìtọ́jú ìdènà gígùn, àwọn ipò iṣẹ́ tí ó dúró ṣinṣin, àti ìdínkù àkókò ìṣiṣẹ́ irinṣẹ́ ní àwọn àyíká iṣẹ́ tí ó ní ìwọ̀n gíga.

Àwọn ìlànà ìtànkálẹ̀ àti ìfọ́mọ́lẹ̀ fi àfikún sí ìdúróṣinṣin ooru ìgbà pípẹ́ àti ìdènà sí ìbàjẹ́ ohun èlò tí ó lọ́ra lórí àwọn ìṣàn iná mànàmáná tí ó gùn. Nínú àwọn ohun èlò wọ̀nyí, òrùka ìfàmọ́lẹ̀ graphite tí a fi TaC bo máa ń ṣe iṣẹ́ ìfàmọ́lẹ̀ déédéé nígbà tí a bá fi ara hàn sí iwọ̀n otútù gíga àti ìyípo ooru tí a ń ṣe leralera. Fẹ́ẹ̀lì TaC náà máa ń dín àwọn ìṣesí ojú ilẹ̀ àti pípadánù ohun èlò kù lọ́nà tí ó dára, nígbà tí graphite substrate ń gba ìdààmú ooru láìsí ìfọ́ tàbí ìyípadà. Ìwọ̀n líle àti ìbámu yìí ń ran lọ́wọ́ láti pa ìdarí afẹ́fẹ́ iná mànàmáná mọ́, ó ń ṣe àtìlẹ́yìn fún àwọn ìpìlẹ̀ ìfọ́mọ́lẹ̀ dopant àti àwọn ìwọ̀n ìdàgbàsókè oxide.

Nítorí pé wọ́n ṣe àgbékalẹ̀ rẹ̀ pẹ̀lú àfiyèsí lórí ìmọ̀ nípa ohun èlò, ìbáramu ìlànà, àti ìgbẹ́kẹ̀lé ìgbà pípẹ́, wọ́n ń lo àwọn ìlànà ìbòrí tí a ṣàkóso láti rí i dájú pé ó nípọn, ìdìpọ̀ tó lágbára, àti ìwọ̀n àbùkù díẹ̀. Iṣẹ́ wọn tí a ti fihàn nínú àwọn ìlànà semiconductor oníwọ̀n otútù gíga, tí ó ń jẹ́ kí ó jẹ́ ojútùú ìdìpọ̀ tó dára fún àwọn ìpele ẹ̀rọ tó ti lọ síwájú.

ni pato
Ti ara-ini ti TaC bo
iwuwo 14.3 (g/cm³)
yo ojuami ≥3880 ℃
Ijadejade pato 0.3
Olumulo imugboroosi alafisodi 6.3*10-6/K
Lile (HK) Ọdun 2000 HK
Resistance 1 × 10-5 Ohm * cm
Iduroṣinṣin ti Gbona <2500 ℃
Awọn iyipada iwọn ayaworan -10 ~-20um
Ti a bo sisanra ≥20um iye aṣoju (35um± 10um)
wa Services

Ile itaja Ọja Semixlab

aisọye

lorun

Gbona isori