Oruka Graphite Borous TaC

Awọn Oruka Graphite Coated TaC Porous lati Semixlab jẹ awọn paati pataki ni awọn agbegbe eletan eletan giga, n pese agbara ti ko baamu, iduroṣinṣin, ati iṣapeye ilana. Wọn jẹ yiyan pipe fun SiC epitaxy, GaN MOCVD, itankale, ati awọn ilana CVD nibiti igbẹkẹle ati iṣẹ ṣe pataki.

Ohun elo & Awọn ohun-ini

● Ipilẹ Graphite: Grafite isostatic iwuwo giga-giga pẹlu eto la kọja fun ibi-gbona ti o dinku ati imudara gbigbe ooru.

● Tantalum Carbide Coating: High-melting-point tantalum carbide (3880 ° C) ṣe idaniloju lile lile, inertness kemikali, ati igba pipẹ ni awọn gaasi ilana ti o lagbara.

● Oniru Apẹrẹ: Ṣe ilọsiwaju pinpin ṣiṣan gaasi, dinku aapọn agbegbe lakoko gigun kẹkẹ gbigbona iyara, ati dinku idoti patiku.

Awọn iṣẹ Semixlab

● Apẹrẹ Aṣa & Awọn iwọn ti a ṣe deede si epitaxy kan pato tabi ohun elo ileru.

● Awọn ohun elo mimọ-giga lati pade awọn ibeere ibajẹ semikondokito to muna.

● Iṣakoso Didara to muna ni idaniloju sisanra ti a bo, adhesion, ati iṣapeye porosity.

● Atilẹyin Imọ-ẹrọ Agbaye fun awọn ile-iṣẹ semikondokito ati awọn olupese ẹrọ.

Kan si Semixlab loni lati beere awọn ayẹwo, awọn pato imọ-ẹrọ, tabi awọn solusan adani.

Awọn ohun elo bọtini ni Awọn ilana Semikondokito

1. Awọn ilana Epitaxy (SiC, GaN, ati Si)

Ninu awọn ilana idagbasoke epitaxial gẹgẹbi MOCVD, CVD, ati SiC epitaxy, awọn oruka lẹẹdi ti a bo TaC ti o lọra ṣe ipa pataki ninu awọn apejọ alailagbara ati awọn ẹya iṣakoso ṣiṣan gaasi. Apẹrẹ la kọja wọn ṣe iranlọwọ lati ṣakoso pinpin gaasi ti ngbe, idilọwọ rudurudu ati idaniloju ifijiṣẹ iṣaju aṣọ si oju wafer. Eyi ni abajade isokan sisanra Layer ti ilọsiwaju, awọn abawọn diẹ, ati ikore ẹrọ ti o ga julọ. Ibora TaC ṣe aabo sobusitireti lẹẹdi lati awọn ipilẹṣẹ ibinu bi HCl, NH₃, silane, ati awọn hydrocarbons, gigun igbesi aye iṣẹ labẹ awọn ipo iwọn otutu ti nlọsiwaju (> 1500°C).

2. Itankale ati Annealing Furnaces

Lakoko itankale dopant ati annealing otutu-giga lẹhin gbin ion, awọn oruka graphite ni a lo bi atilẹyin ati awọn eroja iwọntunwọnsi gbona laarin awọn eto ileru. Ẹya la kọja wọn dinku ibi-gbona, muu ni iyara rampu ati awọn iyipo tutu-isalẹ lakoko ti o dinku aapọn gbona lori awọn wafers. Iboju TaC ṣe idilọwọ ifoyina ati ibajẹ kemikali, aridaju iwọn naa n ṣetọju iduroṣinṣin igbekalẹ kọja awọn iyipo igbona ti o tun ṣe. Nipa imuduro awọn agbegbe wafer, awọn oruka wọnyi ṣe iranlọwọ lati ṣaṣeyọri awọn profaili dopant deede ati oju-iwe ogun wafer ti o dinku.

3. PECVD ati LPCVD Chambers

Ni PECVD ati LPCVD reactors, la kọja TaC ti a bo graphite oruka sise bi iyẹwu liners, idabobo irinše, tabi support oruka. Awọn agbegbe wọnyi nigbagbogbo ṣafihan awọn ohun elo si bombardment pilasima ati awọn gaasi ipata pupọ bii fluorine- ati iru orisun chlorine. Iboju TaC ṣe afihan atako ti o ga julọ si etching ati ogbara pilasima, ni pataki idinku idinku patiku ati eewu ibajẹ. Pẹlupẹlu, apẹrẹ la kọja n ṣe iranlọwọ lati tu ooru kuro ni deede, ni idaniloju awọn oṣuwọn ifisilẹ fiimu iduroṣinṣin ati imudara ilana atunṣe.

4. Etching ati Deposition Ayika

Ninu etching gbigbẹ ati awọn ilana ifisilẹ fiimu tinrin, awọn oruka lẹẹdi ti a bo ti la kọja TaC ṣiṣẹ bi awọn idena aabo ati awọn eroja imuduro ti o dinku ifisilẹ ẹhin ati ogbara ti pilasima ti o fa awọn ẹya ara ẹrọ riakito to ṣe pataki. Lile ti a bo ati inertness kemikali ṣe idiwọ awọn aati ti aifẹ pẹlu awọn gaasi ilana, idinku awọn orisun idoti. Ohun elo wọn ṣe pataki ni mimu mimọ iyẹwu, imudara akoko akoko, ati aabo awọn wafers iye-giga lati ikore-pipa patikulu.